삼성전자, 화성캠퍼스서 반도체 EUV 라인 착공…2020년 본격 가동
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삼성전자, 화성캠퍼스서 반도체 EUV 라인 착공…2020년 본격 가동
  • 조선희 기자
  • 승인 2018.02.23 11:10
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▲ 삼성전자 화성캠퍼스 EUV라인 조감도. <삼성전자 제공>

삼성전자가 23일 경기도 화성캠퍼스에서 화성 EUV 라인 기공식을 갖고 본격적으로 라인 건설에 착수했다.

이번에 착공하는 화성 EUV라인은 내년 하반기 완공 후 시험생산을 거쳐 2020년부터 본격 가동을 시작한다.

이번 신규라인에는 미세공정 한계 극복에 필수적인 EUV(극자외선)장비가 본격 도입될 예정으로 삼성전자가 향후 반도체 미세공정 기술 리더십을 유지하는 데 핵심 역할을 할 것으로 예상된다.

반도체 산업은 최근 한 자리 수 나노 단위까지 미세화가 진행됨에 따라 더 세밀한 회로를 구현하기 위해서는 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은 EUV 장비의 도입이 불가피하게 됐다.

EUV 기술이 본격 상용화되면 반도체의 성능과 전력효율을 향상시킬 수 있음은 물론 회로 형성을 위한 공정수가 줄어들어 생산성도 획기적으로 높일 수 있다.

삼성전자는 화성 EUV라인을 통해 향후 모바일·서버·네트워크·HPC 등 고성능과 저전력이 요구되는 첨단 반도체 시장 수요에 적기 대응하고 7나노 이하 파운드리 미세공정 시장을 주도해 나간다는 계획이다.

화성 EUV라인의 초기 투자규모는 건설비용 포함 2020년까지 60억 달러 수준으로 삼성전자는 라인 가동 이후 시황에 따라 추가 투자를 추진한다는 계획이다.

삼성전자 DS부문장 김기남 사장은 기념사를 통해 “이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것”이라고 말했다.


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