삼성전자가 올해 사상 최대 규모의 46조2000억원을 시설투자에 투입키로 했다.

삼성전자는 31일 공시를 통해 반도체 29조5000억원, 디스플레이 14조1000원 수준 등 올해 전체 시설투자에 약 46조2000억원을 투입한다고 밝혔다.

지난해 25조5000억원보다 81.2%가 증가한 것으로 사상 최대 규모다.

삼성전자는 3분기에만 반도체 7조2000억원, 디스플레이 2조7000억원 등 총 10조4000억원의 시설투자를 단행했다.

이에 따라 3분기 누적 시설투자 규모는 32조9000억원에 달했다.

구체적으로 메모리의 경우 V낸드 수요 증가 대응을 위한 평택 1라인 증설과 D램 공정전환을 위한 투자가 진행되고 있으며 파운드리는 10나노 공정 생산라인 증설에 투자되고 있다.

디스플레이의 경우는 플렉서블 OLED 패널 고객 수요에 대응하기 위한 생산라인 증설 투자가 진행중이다.

4분기에는 상당 부분이 반도체 사업에 투자될 예정이며 주로 신규부지 조성과 클린룸 공사 등 인프라 구축에 쓰일 전망이라고 삼성전자 측은 밝혔다.

이성태 기자 다른기사 보기